Titán porlasztó célpontok

Titán porlasztó célpontok

Célok a titán porlasztáshoz
99,9-99,999 százalékos tisztaságú
Circular: Thickness >= 1mm, átmérő=14 hüvelyk
Blokk:=32 hüvelyk hosszú,=12 hüvelyk széles és=1 mm vastag
Célok A sík és a forgó porlasztó céltárgyak példái erre a típusra.
A szálláslekérdezés elküldése
A termék bemutatása

Mik a titánporlasztás céljai?
Kulcsfontosságú, hogy kezdetben megértsük a titánt, hogy megértsük a titán porlasztási célpontjait.

A titán fémelem szilárdságáról és tartósságáról híres. Tűzálló fémként értékes, mivel viszonylag magas olvadáspontja (több mint 1650 fok vagy 3, 000 F fok). A porlasztásos bevonat olyan módszer, amely titán céltárgyakat alkalmaz, amelyek titán fémből készülnek.

Az öntés és az olvasztás a titáncéltárgyak készítésének két alapvető folyamata.

Amikor egy fém megolvad, magas hőmérsékletet használnak fel, hogy folyadékká váljon. A célpont akkor keletkezik, amikor az öntőformába kerül, és időt adnak lehűlni.

Öntés: A nagy energiájú részecskéket a vákuumkamra belsejében lévő fémre lövik. Ennek eredményeként a fém elpárolog, lehűléskor lecsapódik a céltárgy felületén.

Titán (Ti) specifikációk

Anyagtípus Titán
Szimbólum Ti
Atomtömeg 47.867
Atomszám 22
Szín/Megjelenés Ezüstös metál
Hővezető 21.9 W/m.K
Olvadáspont ( fok ) 1,660
Hőtágulási együttható 8.6 x 10-6/K
Elméleti sűrűség (g/cc) 4.5
Z arány 0.628
Köpköd DC
Max teljesítménysűrűség
(Watt/négyzethüvelyk)
50*
A kötvény típusa Indium, elasztomer

Az integrált áramkörök létrehozásának egyik kulcseleme, tisztasága gyakran több mint 99,99 százalékot igényel. A félvezető- és napenergia-ipar számára az AEM titánötvözetből készült célpontokat biztosít, például volfrám-titán (W/Ti 90/10 tömegszázalék) porlasztó célpontot. A W/Ti porlasztás célsűrűsége meghaladhatja a 14,24 g/cm3-t, a tisztaság pedig megközelítheti a 99,995 százalékot.

Titanium Sputtering Targets factory

A képlékeny és erős fém titán sűrűsége alacsony (különösen oxigénmentes környezetben). Tűzálló fémként értékes, mivel viszonylag magas olvadáspontja (több mint 1650 fok vagy 3,{4}} F-fok). Alacsony elektromos és hővezető képességgel rendelkezik, és paramágneses. A hardvereszközök bevonása, a díszítő bevonat, a félvezető alkatrészek bevonása és a lapos kijelzők bevonása mind gyakori felhasználási terület a titán porlasztási célpontjainál. Az integrált áramkörök létrehozásának egyik kulcseleme, tisztasága gyakran több mint 99,99 százalékot igényel. A félvezető- és napenergia-ipar számára az AEM titánötvözetből készült célpontokat biztosít, például volfrám-titán (W/Ti 90/10 tömegszázalék) porlasztó célpontot. A W/Ti porlasztás célsűrűsége meghaladhatja a 14,24 g/cm3-t, a tisztaság pedig megközelítheti a 99,995 százalékot.

 

A felhasználási területek közé tartoznak a lapos képernyők, a hardvereszközök díszítő bevonatai és a félvezetők.

Jellemzők: Alacsony költség; Nagy tisztaságú; finomított gabona; tervezett mikrostruktúra; átlagos szemcseméret 20 um; félvezető minőségű.

 

Weboldalunkon porlasztási célpontok, párolgási források és egyéb lerakódási anyagok széles választékát kínáljuk, anyagok szerint rendezve. Kérjük, látogasson el ide, ha becslést szeretne kérni a porlasztásos célokra és más, a listán nem szereplő lerakódási termékekre vonatkozóan, vagy közvetlenül beszélni szeretne valakivel az aktuális árakról.zy@tantalumysjs.com

Népszerű tags: titán porlasztó célpontok, beszállítók, gyártók, gyár, testreszabott, vásárlás, ár, árajánlat, minőség, eladó, raktáron

A szálláslekérdezés elküldése

Haza

Telefon

E-mailben

Vizsgálat