Nagy tisztaságú tantál lap

Nagy tisztaságú tantál lap

1.Atomszám:73
2. CAS-szám:7440-25-7
3. Atomtömeg: 180,95 [g/mol]
4. Olvadáspont: 2996 fok
5. Forráspont: 5458 fok
6. Sűrűség 20 fokon: 16,65 [g/cm3]
7. Kristályszerkezet: Testközpontú köbös
8. Lineáris hőtágulási együttható 20 fokon: 6,4 × 10-6 [m/(mK)]
9. Hővezetőképesség 20 fokon: 57,5 ​​[W/(mK)]
10. Fajlagos hő 20 fokon: 0,14 [J/(gK)]
11. Elektromos vezetőképesség 20 fokon: 8,0 × 106 [S/m]
12. Fajlagos elektromos ellenállás 20 fokon: 0,125 [(Ωmm2)/m]
A szálláslekérdezés elküldése
A termék bemutatása
Termékleírás

Ahol nagy korrózióállóságra van szükség, a tantál bölcs választás. Annak ellenére, hogy a tantál nem nemesfém, kémiai ellenállása a nemesfémekhez hasonló. Testközpontú köbös kristályformája ellenére a tantál meglehetősen egyszerűen megmunkálható szobahőmérséklet alatti hőmérsékleten is. Emiatt számos kémiai folyamatban hasznos anyag. Például gyártunk hőcserélőket a berendezésipar számára, szegecselt állványokat a kemenceipar számára, implantátumokat az orvostechnikai ipar számára, és kondenzátor alkatrészeket az elektronikai ipar számára a mi „hajlíthatatlan” anyagunkból.

A tantállemez gyártási folyamata

A nagy tisztaságú tantállemez szinte mindegyik hidegfeldolgozási technikával készül. Általában a 15–3{5}} cm-es tantál tuskót hidegen kovácsolják 8–10 m vastagságú födémté, majd hidegen hengerelve ilyen lemezből a tömörítési arány több mint 95 százalék lehet. Az ipari gyártásban két négy hengerműben jellemzően 0,63-1,2 cm vastagságú, 51-102 cm szélességű lemezeket hengerelnek. Annak elkerülése érdekében, hogy oxidok képződjenek a felületen, a szokásos hengerlést szobahőmérsékleten vagy ahhoz közeli hőmérsékleten végzik. A meleghengerlést igénylő átkristályosítás miatt a hőmérséklet eléri az 1000 fokot és erős oxidációs folyamat megy végbe.

 

Gyakorlatilag minden vastag tantál lemezt vákuumban hevítenek az izzítási folyamat során. Mivel fázisváltozás nem történik, a felmelegedés és a hűtés sebessége nem fontos. További hengerlés szabványos, gyakran négyhengeres többhengeres malom segítségével. Mivel a tantál fém nagyon puha, óvatosan kell eljárni, nehogy karcolódjon a feldolgozás és a szállítás során.

 

Nagy tisztaságú tantállemez fajták, márkák, specifikációk

Tantál lap / lemez specifikációk
Fokozat Ellátási állapot Méret/mm Fajták
Vastagság Szélesség Hossz
Ta Y 0.005-0.09 30-120 >200 fólia
TaNb3 M.Y >0.5-2.0 50-200 50-700 lap
TaNb20 M.Y >2.0-6.0 50-200 50-300 lap

 

Különféle vastagságú és méretű nagy tisztaságú tantállemez a Yusheng Metals különlegessége. Bevonó és vékonyrétegű CVD és PVD eljárásokhoz, beleértve a termikus és elektronsugaras (E-Beam) elpárologtatást, az alacsony hőmérsékletű szerves párologtatást, az atomi réteges leválasztást (ALD), valamint a fémorganikus és kémiai gőzleválasztást (MOCVD) speciális alkalmazásokhoz, például üzemanyagcellákhoz és napenergia, a lemezek többsége ingotból készül. Az összes fém vastagsági tartománya 0.04"–0,25". A kristályosítást, a szilárd fázist és más rendkívül nagy tisztaságú technikákat, például a szublimációt használnak anyagok létrehozására.

Szakterületünk egyedi kompozíciók létrehozása üzleti és tudományos kutatáshoz, valamint a legmodernebb szabadalmaztatott technológiákhoz. Bármilyen ritkaföldfém, valamint a legtöbb más élvonalbeli anyag öntéssel, valamint egyéb megmunkálási technikákkal, nanorészecskék és oldatok, valamint fémorganikus formák révén rudakká, rudakká vagy lemezekké alakítható. Ezenkívül a tantált lemezek, rudak és porok formájában is gyártjuk. Kérésre további formák is rendelhetők.

Népszerű tags: nagy tisztaságú tantál lemez, beszállítók, gyártók, gyári, testreszabott, vétel, ár, árajánlat, minőség, eladó, raktáron

A szálláslekérdezés elküldése

Haza

Telefon

E-mailben

Vizsgálat