Tantál ötvözet - 111

A Baoji Yusheng Metal főként volfrámot, molibdént, tantált, nióbiumot, cirkóniumot, krómot, titánt, nikkelt, vanádiumot, kobaltot, hafniumot és ezek ötvözeteit gyártja lemezek, lemezek, szalagok, fóliák, rudak, huzalok, csövek és egyéb hagyományosan feldolgozott formában. profilok, valamint csónakok, tégelyek, porlasztó célok, bevonatcélok, megmunkált alkatrészek, magas hőmérsékletű kemenceszigetelő szűrők, fűtőelemek, kemencetestek (fűtőkemencék, izzítókemencék), korrózióálló berendezések és egyéb mélyen feldolgozott termékek. A termékeket elsősorban a zafírkristály kemence, vákuumkemencék, monokristályos szilícium kemence, félvezető ion beültetés, fémpor fröccsöntés, vákuumbevonat, magas hőmérsékletű kemence, üvegszál, kohászat, petrolkémiai, repülési, gyógyszerészeti, orvosi berendezések területén használják, élelmiszeripar, tengeri, autóipar, építőipar, ipari kerámia, környezetvédelmi mérnöki és egyéb iparágak. Termékeinket a világ minden táján értékesítették, beleértve az Egyesült Államokat, Japánt, Németországot, Ausztráliát, Kanadát, Délkelet-Ázsiát és más régiókat.

Az ötvözet összetételének hatása a tantál ötvözet ridegedési problémáinak csökkentésére T-111

Vizsgálták a tantál ötvözet - 111 öregedési ridegségének kiváltó okait és az ötvözet változásának hatását. Az eredmények azt mutatják, hogy a T-111-ben a volfrám és a hafnium döntő aránya van, ami a hajlékonyság csökkenését okozza -196 C-on körülbelül 1040 C-os öregedés után. Felfedezték, hogy ez azért történik, mert a volfrám elősegíti a hafnium szegregációját. szemcsehatárokhoz, ami növeli a hidrogén ridegséggel szembeni érzékenységét. Az alacsonyabb volfrám- vagy hafniumkoncentrációjú tantálötvözetek nem mutattak öregedési ridegséget; mindazonáltal a vizsgált ötvözetek többsége kisebb szilárdságú, mint a T-111, és érzékenyek a hidrogén ridegségére.

820 és 990 C-on az oxigént körülbelül.0003 torr nyomáson vezették be. A módszer lehetővé tette a tantálötvözet kiszámítható és ismételhető oxigénadagolását. (T-111). Az adalékolási reakció hőmérsékletfüggése szerint a T-111 rácsban lévő oxigénoldat nagy valószínűséggel szabályozza az oxigénfelvétel első ütemét. Az adalékolt mintákban a tantál és a volfrám-oxidok dominálnak, feltehetően az ötvözetben található nagyobb mennyiségű tantál és volfrám miatt, annak ellenére, hogy a hafnium-oxidok stabilabbak, mint a tantál vagy a volfrám. A magas hőmérsékletű izzítás azonban elősegíti a hafnium-oxidok képződését azáltal, hogy ösztönzi más oxidok és oldott oxigén oxidációját.